기존 APS 방식은 열 스프레이로 인해 형성된 층상 구조로 인해 기공률이 높고 응집력이 낮은 한계가 있었지만, eXtreme™ 기술은 등방성 고밀도 구조(Isotropic High-Density Structure)를 통해 기공률을 현저히 줄이고 내부 응집력을 향상시켰다. 그 결과, 내마모성, 피로 수명, 열 충격 저항성 등 전반적인 코팅 품질에서 우수한 성능을 확보했다.
‘eXtreme™’은 고객의 니즈를 중심으로 개발된 싸이노스 플라즈마 코팅 기술로 △고밀도 △고경도 △고품질의 성막 구현이 가능하다. 특히 미세 분말을 균일하게 코팅할 수 있는 기술력을 바탕으로, 기존 APS 공정에서 자주 발생하는 라멜라(Lamella) 구조의 한계를 극복했다.
또한 eXtreme™은 더욱 치밀하고 균일한 코팅막을 형성해, SPS(서스펜션 플라즈마 스프레이) 방식과 유사한 수준의 고성능 성막 구현이 가능하다는 평가를 받고 있다. 이로 인해 다양한 반도체 장비 부품에 적용 가능성이 높으며, 기존 기술보다 폭넓은 활용처를 확보할 수 있을 것으로 기대된다.
싸이노스 조승준 대표는 “기존 기술의 한계를 정확히 진단하고 이를 개선하는 것이 싸이노스 기술 개발의 핵심 가치”라며 “고객사의 요구에 부응하는 맞춤형 기술을 지속적으로 개발하고, 기존 기술의 고도화에도 끊임없이 노력할 것”이라고 말했다.
싸이노스 기술연구소 관계자는 “성막 성능 테스트 결과, 기존 APS 코팅에 비해 내구성과 품질 전반이 우수한 것으로 나타났다”며 “미세 입자 크기의 분말을 사용하더라도 고품질 코팅이 가능해 반도체 부품의 사용 수명을 연장하고, 원가 절감에도 기여할 수 있을 것”이라고 밝혔다.
싸이노스는 이번 eXtreme™ 기술 개발을 계기로, 반도체 산업의 핵심 공정 부품의 수명 연장과 생산 효율성 향상은 물론, 글로벌 경쟁력 제고에도 기여하겠다는 계획이다.
이병학 빅데이터뉴스 기자 lbh@thebigdata.co.kr
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