15일 한국거래소에 따르면 전일 시간외 매매에서 에스앤에스텍 주가는 종가보다 3.17% 오른 2만6050원에 거래를 마쳤다. 에스앤에스텍의 시간외 거래량은 9163주이다.
이는 삼성전자 파운드리 사업부가 차세대 기술인 하이-NA 극자외선(EUV) 노광에 필요한 핵심 소재 상용화를 위해 속도를 내고 있다는 소식이 전해졌기 때문으로 풀이된다.
전일 한 매체는 삼성 파운드리의 ‘바쿠스(BACUS) 2024’ 학회 발표 자료를 인용해 탄소나노튜브(CNT) 펠리클 상용화를 위한 특성 확보에 성공했다고 보도했다.
앞서 삼성전자의 협력사인 에프에스티는 올 하반기부터 EUV 펠리클 양산을 시작할 것으로 관측된 바 있다.
지난 2021년 삼성전자는 기술 개발 협력을 위해 이 회사에 430억원을 투자한 바 있다.
CNT 펠리클은 웨이퍼 위에 빛으로 회로를 새기는 노광 공정에서 활용되는 소재다. 펠리클은 빛이 회로를 새기기 위해 거쳐가야 하는 '마스크'를 보호하는 덮개다.
CNT 펠리클은 헝겊처럼 작은 구멍들이 뚫려있어 빛은 통과시키면서 마스크에서 떨어진 이물질들은 그물망처럼 보호할 수 있다. 따라서 90% 이하의 낮은 투과율을 보이는 기존 펠리클의 대안으로 거론되고 있다.
이번 개발로 삼성 파운드리의 펠리클 공급망 다변화도 기대된다. 기존에는 일본 미쓰이화학의 펠리클을 파운드리 공정에 소량 적용했다.
다만 CNT 제품의 경우 국내 소재 기업인 에프에스티와 ‘캐핑(Capping) CTN 펠리클’이라는 기술을 협력 개발해 수명을 20배나 더 늘렸다고도 소개했다.
CTT 리서치는 에프에스티에 대해 올 하반기 극자외선(EUV) 펠리클 양산을 시작하며 큰 폭의 실적 향상이 예상된다고 언급했다.
이 소식에 에스앤에스텍과 와이씨켐, 동진쎄미켐 등도 주목받고 있다.
업계에 따르면 EUV 펠리클 생산업체인 에스앤에스텍은 최근 500와트 EUV용 펠리클 개발을 완료하고 양산 준비에 나서고 있다. 현재 최대 생산능력에 도달한 블랭크마스크 설비투자를 추가로 확대하는 한편 일부 제품은 가격을 50% 수준으로 올리며 수익성 확대에 나섰다.
EUV용 포토레지스트 국산화를 주도하고 있는 동진쎄미켐의 경우 지난 2022년 12월 삼성전자에 EUV용 포토레지스트(PR) 공급을 시작한 뒤, 지난해 하반기에는 EUV용 포토레지스트를 공급하며 국산화에 성공했다. 최근에는 삼성전자 1c(10나노급 6세대) D램 공정에 필요한 EUV 포토레지스트 공급을 추진 중이다.
포토레지스트는 빛이 닿으면 성질이 변하는 화학물질로 반도체 공정의 필수 화학물질이다. 이를 반도체 원판(웨이퍼)에 얇게 바르고 회로가 그려진 판을 투과해 빛을 쏜 이후 현상액으로 불필요한 부분을 녹이면 회로가 형성되는 원리다. 그동안 일본 기업들이 해당 시장을 장악하고 있었지만, 지난 수년간 국내 기업들도 시장 진입에 성공했다.
와이씨켐도 국내 최초로 EUV 감광액 공정에 투입되는 린스를 연내 양산한다는 방침이다. 린스는 포토공정에서 발생하는 각종 결함을 낮추는 역할을 한다.
와이씨켐은 2022년 경북 성주산업단지에 200억원 규모 설비투자를 마쳐 기존 노광공정용 소재에 이어 후공정용 소재까지 생산할 수 있는 기반을 구축했다. 용인 반도체 클러스터에도 오는 2028년까지 500억원 규모의 신규 시설투자를 집행할 방침이다.
김준형 빅데이터뉴스 기자 kjh@thebigdata.co.kr
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