31일 한국거래소에 따르면 전일 시간외 매매에서 에스앤에스텍 주가는 종가보다 2.75% 오른 4만3000원에 거래를 마쳤다. 에스앤에스텍의 시간외 거래량은 1만5825주이다.
현대차증권은 에스앤에스텍에 대해 올해 반도체 업황 회복 등이 예상됨에 따라 최근의 주가 하락은 기우라고 밝혔다.
올해 반도체 업황 턴어라운드 기대에 더해 더 소형화되고 첨단 칩을 만들기 위한 선단 공정에서 극자외선(EUV) 공정은 더욱 중요해지고 있다.
펠리클은 파티클과 오염물질이 포토마스크에 도달하는 것을 방지하고 EUV 포토 마스크를 보호하는 장벽 역할을 한다. 업계에서는 EUV 펠리클에 기술 성공 여부가 달려있다고 보고 있다.
곽민정 현대차증권 연구원은 “현재 일본 미쓰이 기반의 펠리클은 국내 업체에서 양산 평가 중이지만 반도체 업체 내 이원화가 필요한 상황”이라며 “이에 대응하기 위해 에스앤에스텍은 용인 공장 착공 후 공사 진행 중”이라고 설명했다.
에스앤에스텍은 극자외선(EUV) 노광 공정 핵심 부품으로 꼽히는 ‘펠리클(포토마스크를 보호하는 일종의 덮개 역할)’을 오는 3분기까지 양산한다는 계획이다.
에스앤에스텍은 지난해 10월 미국 SPIE 학회에서 메탈 실리사이드(Metal Silicide) 기반의 400W, 500W 외에 카본 기반의 600W EUV 공정해에 접합한 새로운 펠리클을 발표했다.
메탈기반 펠리클은 모든 성능 지표를 충족했고 테스트 결과 열적 변형이 없었다. 카본 기반 펠리클은 10K 이상의 웨이퍼 수명을 견딜 수 있는 것으로 보고됐다.
또 비코(Veeco)의 3분기 실적 발표에서 비코의 이온빔 증착 장비가 EUV 블랭크 마스크 적용을 위해 추가 수주를 받았으며, 펠리클 증착 등으로 확장될 수 있을 것이라고 언급했다.
곽 연구원은 “미쓰이 케미칼 역시 이전에 펠리클을 사용하지 않았던 반도체 제조사들이 사용을 고려하고 있다고 언급했기 때문에 펠리클 시장에서의 확대·개화 가능성이 높다”고 판단했다.
이어 “최근 중국의 레거시향 블랭크 마스크 쇼티지로 인한 에스앤에스텍의 본업에서의 성장세가 올해 실적에 기여할 것”이라며 “글로벌 파운드리 업황 역시 내년에는 회복될 것으로 전망된다”고 덧붙였다.
김준형 빅데이터뉴스 기자 kjh@thebigdata.co.kr
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