31일 한국거래소에 따르면 이날 오전 후성 주가는 전 거래일보다 6.1% 오른 1만3670원에 거래되고 있다.
후성은 반도체 공정용 특수가스와 이차전지 전해질, 냉매 등 불소화학제품을 생산하는 소재 기업이다. 환경규제로 경쟁사 진입이 어려운 냉매, 높은 신뢰도가 요구되는 반도체용 특수가스 등 진입장벽이 존재하는 사업을 통해 성장해 왔다. 이어 전기자동차 시장 확대에 앞서 일찍이 이차전지 전해질을 신소재로 키우며 사업다각화에 성공했다.
후성은 불화수소(HF) 기술을 바탕으로 국내 반도체용 특수가스 시장을 원익머트리얼즈, SK스페셜티 등 일부 기업과 과점하고 있다. 반도체용 특수가스 시장이 공정 미세화 흐름에 더해 주요 고객사인 삼성전자, SK하이닉스의 투자 확대 흐름을 타고 성장하는 가운데 후성은 고도의 신뢰도와 품질수준을 갖춘 제품을 앞세워 공급망 내 높은 점유율을 지켜왔다.
반도체 노광 공정 후 반도체원판(웨이퍼) 위에 일정한 회로를 만들어 주기 위해 필요 없는 부분을 선택적으로 제거하는 식각 공정에서 쓴다. 식각 공정은 매개체로 가스를 쓰는 건식 식각과 액상 화학물질을 사용하는 습식 식각으로 구분된다. 건식 식각은 C4F6를 비롯한 가스를 플라즈마화시켜 보다 정교한 회로를 새길 수 있어, 첨단 반도체 생산을 위해 수요가 꾸준히 증가하는 추세다. C4F6는 주로 3차원(3D) 낸드플래시(이하 낸드) 질화막 식각 공정에 투입된다. 후성은 삼성전자와 SK하이닉스 등 세계적인 메모리반도체 기업을 고객사로 두고 있으며 현재 C4F6 생산능력은 연간 180미터톤(MT) 규모다.
WF6는 반도체 배선형성(메탈) 공정의 금속 접착 형성에 사용되는 특수가스다. 열정 안정성이 우수하고 비전기 저항값이 낮다는 특성이 있다. 후성은 최근 WF6가 C4F6와 함께 낸드 3D 공정 전환에 따른 사용량이 급증하고 있다고 설명했다. 메모리반도체 1개 공장 증설에 150톤에서 300톤 규모 추가 수요가 발생한다. 여기에 집적도 향상과 웨이퍼 크기 확대에 따른 수요 증가가 기대된다. 현재 후성이 확보한 WF6 생산능력은 연간 400MT 수준이다.
현재 삼성전자와 SK하이닉스는 모두 200단 이상 3D 낸드를 양산 중이며 시장조사업체 옴디아에 따르면 삼성전자를 중심으로 하는 증설효과에 따라 올해 말까지 200단 이상 낸드가 전체 낸드 생산에서 차지하는 비중은 약 10% 수준까지 확대될 전망이다.
후성은 반도체 소재에 이어 이차전지 소재 전문 기업으로도 자리매김했다. 이차전지 전해액 생산에 필수인 전해질 ‘육불화인산리튬(LiPF6)’을 국내에서 유일하게 생산하며 몸값이 치솟고 있다. 전해액은 양극재, 음극재, 분리막과 함께 이차전지 4대 소재로 꼽힌다. 이때 전해액은 양극과 음극 사이에서 리튬이온이 이동할 수 있도록 하는 매개 역할을 한다. 전해액은 필수 소재인 전해질과 촉매용 첨가제, 유기용매의 합성으로 구성된다.
후성은 고순도 반도체 특수가스 생산 경험을 살려 LiPF6의 불소 관련 원료물질인 무수불산의 순도를 반도체급으로 유지하고 있다고 설명했다. 핵심 기술인 결정화공정을 이용해 냉각속도, 교반속도, 용액의 농도 등을 최적화했다.
현재 생산능력은 국내와 중국에 연간기준으로 각 3800MT 규모를 갖췄다. 지난 2010년 미국 이차전지 전해액 생산기업인 노블라이트 지분 49.9% 취득하고 이어 2016년 노블라이트 중국 공장에서 현지 이차전지 소재 기업과 장기공급계약을 맺기도 했다. 현재 국내외에서 생산능력을 확대하기 위한 투자가 진행되고 있다.
냉매가스 역시 국내에서 후성이 독점으로 생산한다. 냉매가스는 환경규제로 사업 허가관 발급이 어려워 진입장벽이 높다. 연간 7500MT 규모를 생산할 수 있으며 삼성전자와 LG전자, 현대자동차, 기아자동차 등 다양한 기업에 공급한다.
하지운 기자 thebigdata@kakao.com
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